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【清溢光电:55nm相移掩膜版产品进入客户上线认证阶段】清溢光电公告称,公司55nm PSM(相移掩
来源摘要 · 新浪财经2026/9/28 13:59:30展开 / 收起
【清溢光电:55nm相移掩膜版产品进入客户上线认证阶段】清溢光电公告称,公司55nm PSM(相移掩膜版)产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书,已收到客户采购订单,产品现已交货,进入客户上线认证阶段。该产品主要用于半导体芯片制造关键光刻层,覆盖逻辑、存储等高精密图形场景。若该产品顺利完成认证并实现规模化批量供货,将完善公司高端半导体掩膜产品矩阵,提升半导体掩膜业务盈利能力。目前认证周期、认证结
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