光刻机产业链国产化进程提速

北方华创作为国产设备龙头，其刻蚀、薄膜沉积设备已进入中芯国际、长江存储等主流产线，光刻机国产化将带动整个设备链的协同发展。中微公司的等离子体刻蚀设备已具备国际竞争力，在3D NAND领域市占率持续提升。芯源微的涂胶显影设备是光刻工序的核心配套，直接受益于光刻机国产化进程。

光刻机的核心是光学系统，占整机成本约30%。福晶科技是全球最大的LBO晶体供应商，其产品直接用于光刻机的光源系统。炬光科技在激光雷达和半导体激光器领域有深厚积累，其微光学元件可用于光刻机的照明系统。蓝特光学的玻璃非球面透镜是光刻机物镜系统的关键部件。

光刻机对精密运动平台和真空环境要求极高。华卓精科是国内唯一具备光刻机双工件台量产能力的企业，是上海微电子的核心供应商。新莱应材的高洁净应用材料用于光刻机的真空系统。汉钟精机的干式真空泵是光刻机工作环境的保障。